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渗碳工艺过程气氛监测解决方案

渗碳工艺过程气氛监测解决方案

  采用武汉华敏研发的“多点分布式,实时在线检测分析”架构,每台主炉配备一台气氛监测单元,监测单元为工业防护标准的模块化结构, 直接安装在炉体旁,从原设备上的取气...

方案介绍

  “多点分布式,实时在线检测分析”架构,多台设备能做到实时、连续、在线高温检测各路气氛,并同时在中央分析仪上显示。除了采集传统的氧电势和炉温,系统同时取样分析炉内CO、CO2、CH4气氛,用于炉况的诊断。除此之外,系统引用测量得到的CO和CO2值进行气氛法的碳势计算,与氧探头法碳势相互比对,对氧探头的当前工作状况实施准确客观的“第三方”监测,满足CQI-9标准对气氛验证的要求。

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方案优势

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“黑匣子”气体分析单元核心特色
CO、CO2、CH4用半导体激光光谱吸收技术(TDLAS)原理,TDLAS本质上是一种光谱吸收技术,通过分析激光被气体分子选择性吸收来获得气体的浓度。它与传统红外光谱吸收技术的不同之处在于,半导体激光光谱宽度远小于气体吸收谱线的展宽(半导体激光光谱原理图)。因此,半导体激光吸收光谱技术是一种高分辨率的光谱吸收技术。系统采用特定波长的激光束穿过被测气体,激光强度的衰减与气体的浓度有一定的关系,因此可以通过检测激光强度衰减信息的分析获得被测气体的浓度。
采用半导体激光光谱吸收技术的激光气体分析仪可从原理上抗背景气体的干扰,测量结果可靠性高。

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